Deutsche und chinesische Gebrauchsmuster

Dieses Seminar vermittelt Ihnen, wie Sie das deutsche und chinesische Gebrauchsmustersystem strategisch maximal effizient einsetzen können.

Das notwendige Wissen wird anhand einer Vielzahl von Case Studies vermittelt, die alle tatsächlichen Fällen aus der Praxis nachgebildet sind. Zugleich erhalten Sie einen aktuellen Überblick über die zentralen Entwicklungen der Rechtsprechung zu Offenbarung, Schutzfähigkeit und Schutzbereich.

Durch die Bezugnahme auf das chinesische Gebrauchsmustersystem wird eine globale Perspektive vermittelt, da das Gebrauchsmusterrecht in Deutschland und China die im internationalen Vergleich mit Abstand größte Rolle spielt.

Themen

- Gebrauchsmusterverletzungsverfahren: der effizientere Patentverletzungsprozess?
- Patent- und Gebrauchsmusterverletzungsprozess: wie kann man das Zusammenspiel optimal nutzen?
- Gebrauchsmuster und einstweilige Verfügung
- Abzweigung aus PCT/EP-Anmeldungen: welche Optionen bietet der (neue) Offenbarungsbegriff des BGH?
- Löschungsverfahren: Überraschungen vermeiden
- Gebrauchsmuster in China